终极对决在即，LVMH 新锐设计师大奖 8 名决赛候选人名单公布

LVMH 官方网站于上周五公布了 LVMH 新锐设计师大奖最终的 8 名决赛候选人名单。由 41 位顶尖的国际时尚专家评委从上月公布的 23 名入围者的参赛设计作品中评选得出。8 名决赛入围者中有三位为法籍设计师，无疑再次证明了法国无法撼动的时尚都市的地位，同时也反映出巴黎时尚文化对全球青年设计师创作灵感的深远影响力。尽管早前入围的刘旻、王逢陈和陈序之三位风格突出的新锐设计师被遗憾淘汰，但这两年中国设计界惊人的成长速度已让圈内人士大为看好，越来越多的中国青年设计师参与赛事并凭借自身实力设计出的优秀作品给评委们留下了极为深刻的印象。大家不妨一同期待明年更多的中国籍设计师在该奖项角逐中脱引而出，带来更多好的作品。据悉，总决赛将在 6 月 16 号于法国 Louis Vuitton 总部举行，由 LVMH 评委会和 Karl Lagerfeld 共同评选得出最后冠军得主。感兴趣的朋友们务必密切留意 NOWRE 后续为大家带来的最新相关报道。

决赛入围者名单：

Aalto, by Tuomas Merikoski

Alyx, by Matthew Williams

Brandon Maxwell

Facetasm, by Hiromichi Ochiai

Koché, by Christelle Kocher

Vejas, by Vejas Kruszewski

Wales Bonner, by Grace Wales Bonner

Y/Project, by Glenn Martens