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FUJIFILM x fragment design 推出 GFX100RF 中画幅相机

更引入了 FRGMT BW 胶片模式。

FUJIFILM x fragment design 限量版中画幅相机基于旗舰 GFX100RF 打造,外观采用纯黑色打磨处理,精致细节彰显奢华感。机身顶部印有藤原浩标志性「闪电」 logo,并搭配定制皮革肩带,与相机设计风格相匹配。

技术规格方面,Fragment Edition 保留了标准版 GFX100RF 的强大性能,包括 1.02 亿像素传感器和先进的影像处理能力,但作为限量版则更具收藏价值。此外,相机还引入了专为黑白摄影爱好者设计的 FRGMT BW 胶片模拟模式,增强色调对比和阴影效果。

据悉,这款相机将在日本通过 FUJIFILM 官方的抽签系统发售,预定将于 2025 年 12 月 20 日开始,感兴趣的朋友不妨保持关注。

来源FUJIFILM

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